广州顺天装备制造有限公司

1）物料准备

不锈钢板原材料（根据自行设计决定厚度）、镀层靶材（这里是指PVD工艺靶材）

2）PVD镀层所需设备

传送带、板材清洁设备、真空镀（PVD）设备、X光在线监测设备。

说明：镀层可选替代材料如氮化钛、氮化铬、非晶形碳等；工艺也可以用化学镀（CVD）、渗氮处理、电镀等方式替代。

3）PVD加工流程

a.先对原材料板材两面进行清洁并检查品质。

b.将清洁好的板材送入PVD设备炉腔内。（真空或者惰性气体工作环境）

c.采用例如金、钛、铝等靶材，被炉腔内等离子体形成的离子轰击。靶材的原子溶解，移动到基底（此处为原材料）并扩散到其表面形成镀层。

d.用X光用检查镀层的膜厚。

4）PVD过程参数控制：

a.温度：450-500摄氏度。

b.真空压力：1x10-1-1x10-7mBar。

c.镀层厚度：0.1–6.3µm。

d.工作时间：约2-5分钟。

5）影响品质因素

PVD惰性工作环境、镀层材料、基材形状。

6）品质特征

电导率以及耐蚀性。